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    旋转式沉积设备

    2022-09-17 09:45:59发布   信息编号:150755 收藏    浏览: 修改 举报
我公司研发生产的CVD系统集真空管式炉,多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产,各款管式炉,气路系统和真空机组可多种方式组合,真空泵、阀均采用进口产品,性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
产品特点
1.该设备生长温度更低
2.使用滑轨炉实现快速升温和降温,沉积速率快
3.设备辉光均匀等效,均匀生长,成膜质量好
4.支持外部真空规和压力变送器
5.支持智能进气,根据需要设定不同的温度,自动进气,进气定时间到后自动停止进气
6.支持云端数据存储,随时查看数据
7.支持炉膛移动速度调节
8.支持射频电源根据外部工况条件自动启动停止
9.支持压力恒定,压力可以设定
10.支持超压保护,最大压力值可以设定,超过后系统自动进入保护状态
旋转式沉积设备 border-radius=
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